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    產(chǎn)品詳情
    • 產(chǎn)品名稱:PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

    • 產(chǎn)品型號(hào):TN-PECVD-450
    • 產(chǎn)品廠商:泰諾
    • 產(chǎn)品文檔:
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    簡單介紹:
    化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過程,有效提升反應(yīng)速度,降低反應(yīng)溫度。適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備
    詳情介紹:

    化學(xué)氣相沉積技術(shù)參數(shù):

    供電電源

    AC220V 50Hz (歐標(biāo))

    射頻電源

    信號(hào)頻率

    13.56MHz

    功率輸出范圍

    0~500W

    *大反射功率

    100W

    反射功率 (在*大功率時(shí))

    <5W

    功率穩(wěn)定性

    ±0.1%

    工作腔體

    加熱溫度

    RT-1000℃

    溫控精度

    ±1℃

    樣品臺(tái)尺寸

    Φ200mm

    樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

    1-20rpm 可調(diào)

    噴頭尺寸

    Φ90mm

    距離

    噴頭與樣品之間的距離40-100mm連續(xù)可調(diào)

    沉積工作真空

    0. 133- 133Pa (可根據(jù)工藝調(diào)整)

    法蘭

    上法蘭可由電機(jī)升降,基材易更換,并有可視窗口

    腔體

    不銹鋼材質(zhì), Φ500mm * 500mm

    觀察窗

    Φ100mm, 帶擋板

    供氣系統(tǒng)

    通道數(shù)

    6

    測量單位

    質(zhì)量流量計(jì)

    測量范圍

    A 通道: 0200SCCM for H2  

    B 通道: 0200SCCM for CH4

    C 通道: 0200SCCM for C2H4

    D通道: 0500SCCM for N2

    E通道: 0500SCCM for NH3

    F通道: 0500SCCM for Ar

    測量精度

    ±1.5%F.S

    工作壓差

    -0.15Mpa~0.15Mpa

    連接管材質(zhì)

    304 不銹鋼

    氣路

    304 不銹鋼針閥

    進(jìn)氣和出氣接口規(guī)格

    1/4" 卡套接頭

    真空系統(tǒng)

    前級(jí)泵抽速

    4.7L/s

    分子泵抽速

    1200L/s

    真空測量

    復(fù)合真空計(jì), 范圍10-5Pa ~ 105Pa

    真空度

    5.0*10-3Pa

    水冷機(jī)

    冷卻水溫度

    37

    水流速

    10L/min

    功率

    0.1KW

    冷卻功率

    50W/℃

    空壓機(jī)

    OTS-550

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