0371-5536 5392 0371-5519 9322
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的高性價比磁控濺鍍設備，具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等，三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比，三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛，而且具有體積小、操作方便等優點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備。
技術參數：
|
三靶磁控濺射鍍膜機（直流電源+射頻電源） |
||
|
樣品臺 |
濺射模式 |
濺射方向向上，樣品臺位于濺射靶上方； 中心頂部設置樣品架，帶一個擋板； |
|
樣品臺 |
φ150mm |
|
|
控制精度 |
±1℃ |
|
|
加熱范圍 |
室溫～500℃ |
|
|
可調轉速 |
1-20rpm可調 |
|
|
靶基距離可調 |
靶材和襯底之間的距離可以電動調節 |
|
|
磁控靶槍 |
靶面 |
圓形平面靶 |
|
濺射真空 |
10Pa～0.2Pa |
|
|
靶材直徑 |
50～50.8mm |
|
|
靶材厚度 |
2～5mm 注：如果靶是磁性材料（如Fe、Co、Ni），厚度不能超過1.5mm，需要強磁濺射靶槍，需要額外采購。 |
|
|
絕緣電壓 |
>2000V |
|
|
數量 |
2 英寸*3；每個濺射靶槍上都有擋板 |
|
|
電纜規格 |
SL-16 |
|
|
靶頭溫度 |
≤65℃ |
|
|
真空腔體 |
內壁處理
|
電解拋光 |
|
腔體尺寸 |
φ300mm × 350mm |
|
|
腔體材料 |
304 不銹鋼 |
|
|
觀察窗口 |
石英窗，直徑φ100mm，帶擋板 |
|
|
密封方法 |
氟橡膠密封 |
|
|
打開方式 |
頂部開口，氣缸輔助支架 |
|
|
氣體控制系統 |
流量控制 |
三通道質量流量計：
氧氣：范圍0～100SCCM 氬氣：范圍0～200SCCM 氮氣：范圍0～500SCCM （注意：為了實現更高的無氧環境，必須用高純度惰性氣體清潔真空室至少3次。） |
|
氣體類型 |
氬氣、氮氣、氧氣和其他惰性氣體 |
|
|
控制閥類型 |
電磁閥 |
|
|
控制閥靜態 |
常閉 |
|
|
測量線性度 |
±1.5% F.S |
|
|
測量重復性 |
±0.2% F.S |
|
|
測量響應時間 |
≤8 seconds（T95） |
|
|
工作壓力范圍 |
0.3MPa |
|
|
閥體壓力 |
3MPa |
|
|
工作溫度 |
（5～45）℃ |
|
|
閥體材料 |
不銹鋼 316L |
|
|
閥體泄漏率 |
1×10-8Pa.m3/s |
|
|
管道接頭 |
1/4″壓縮接頭 |
|
|
輸入和輸出信號 |
0～5V |
|
|
電源 |
±15V（±5%）（＋15V 50mA, －15V 200mA） |
|
|
外形尺寸(mm) |
130 (寬) × 102 (高) × 28 (厚) |
|
|
通信接口Interface |
RS485 MODBUS 協議 |
|
|
直流電源 |
電源 |
500W |
|
輸出電壓 |
0～600V |
|
|
*大輸出電流 |
1A |
|
|
正時長度 |
65000 S |
|
|
開始時間 |
1～10 S |
|
|
數量 |
2臺 |
|
|
射頻電源 |
電源 |
500W |
|
功率輸出范圍 |
0W-500W, 帶自動匹配 |
|
|
*大反射功率 |
100W |
|
|
RF頻率 |
13.56MHz+/-0.005% 穩定性 |
|
|
電源穩定性 |
≤5W |
|
|
諧波分量 |
小于 -50dbc |
|
