產品名稱：高真空迷你cvd實驗室設備

○ 產品介紹

該組CVD設備為小型化CVD系統，核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱，設備*高溫度可達1200℃。儀器還包含一臺三路浮子流量計，一臺分子泵組，分別構成了CVD的進氣和出氣部分。爐管右側有數顯真空計，用以控制爐管內部的真空度和氣氛環境。系統采用PID智能控溫，控溫精度能達到±1℃。
管式爐在操作上采用溫控表操作，可預設控溫曲線，一鍵啟停，便于使用，能夠簡化實驗操作進而節約試驗時間。高真空分子泵組可以有效提高本低真空度，提高反應產物的質量。

○ 技術參數    

1200℃迷你管式爐參數 

供電電壓	AC220V,50Hz
*大功率	2KW
加熱溫區	單溫區200mm 恒溫區長 100mm
加熱元件	耐熱合金絲
熱電偶	K型
工作溫度	≤1150℃
升溫速率	建議≤10℃
控溫	方式AI-PID 30段工藝曲線，帶有過熱和斷偶保護，精度+-1℃
爐管	高純石英，φ50mm O.D x 450mm L
真空系統	機械泵  抽速1.1L/s ，極限真空 5Pa

三路質量流量計參數

閥門類型	不銹鋼針閥
氣路數量	三路
承壓范圍	0.05~0.3MPa
量程	160SCCM（Air）
混氣罐容積	750mL
氣路材料	304不銹鋼
管道接口	6.35mm卡套接頭

分子泵組參數

本站產品介紹內容（包括產品圖片、產品描述、技術參數等），僅供參考。泰諾公司產品在不斷更新，網站內容可能由于更新不及時，或許導致所述內容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，泰諾公司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知。