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    產品詳情
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    • 產品名稱:PECVD等離子體增強化學氣相沉積

    • 產品型號:TN-PECVD-450
    • 產品廠商:泰諾
    • 產品文檔:
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    簡單介紹:
    化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備
    詳情介紹:

    化學氣相沉積技術參數:

    供電電源

    AC220V 50Hz (歐標)

    射頻電源

    信號頻率

    13.56MHz

    功率輸出范圍

    0~500W

    *大反射功率

    100W

    反射功率 (在*大功率時)

    <5W

    功率穩定性

    ±0.1%

    工作腔體

    加熱溫度

    RT-1000℃

    溫控精度

    ±1℃

    樣品臺尺寸

    Φ200mm

    樣品臺轉速

    1-20rpm 可調

    噴頭尺寸

    Φ90mm

    距離

    噴頭與樣品之間的距離40-100mm連續可調

    沉積工作真空

    0. 133- 133Pa (可根據工藝調整)

    法蘭

    上法蘭可由電機升降,基材易更換,并有可視窗口

    腔體

    不銹鋼材質, Φ500mm * 500mm

    觀察窗

    Φ100mm, 帶擋板

    供氣系統

    通道數

    6

    測量單位

    質量流量計

    測量范圍

    A 通道: 0200SCCM for H2  

    B 通道: 0200SCCM for CH4

    C 通道: 0200SCCM for C2H4

    D通道: 0500SCCM for N2

    E通道: 0500SCCM for NH3

    F通道: 0500SCCM for Ar

    測量精度

    ±1.5%F.S

    工作壓差

    -0.15Mpa~0.15Mpa

    連接管材質

    304 不銹鋼

    氣路

    304 不銹鋼針閥

    進氣和出氣接口規格

    1/4" 卡套接頭

    真空系統

    前級泵抽速

    4.7L/s

    分子泵抽速

    1200L/s

    真空測量

    復合真空計, 范圍10-5Pa ~ 105Pa

    真空度

    5.0*10-3Pa

    水冷機

    冷卻水溫度

    37

    水流速

    10L/min

    功率

    0.1KW

    冷卻功率

    50W/℃

    空壓機

    OTS-550

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