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○ 產(chǎn)品介紹
TN-MSP500S-DCRF-B 靶下置型雙靶磁控 為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，采用靶下置布局，樣品臺在上方，與靶面高度可通過程序可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱，性能優(yōu)異。設(shè)備配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。
○ 適用范圍
可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
○ 產(chǎn)品特點
1：靶下置布局，樣品臺在上方，與靶面高度可通過程序可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱。
2：直流電源和射頻雙電源可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用廣泛。
3：磁控靶配有水冷夾層，水冷機有效的帶走熱量，避免熱量聚集
○ 技術(shù)參數(shù)
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
6KW
極限真空
5*10-4Pa
樣品臺尺寸
φ150mm
樣品臺加熱
≤500℃
樣品臺轉(zhuǎn)速
1-20rpm
磁控濺射頭規(guī)格
2"
磁控濺射頭冷卻方式
10L/民 循環(huán)水冷機
真空腔體尺寸
φ500mm*490mmH
腔體材料
不銹鋼
觀察窗
φ100mm
腔體開啟方式
前開門式
氣體流量控制器
1路200sccm Ar
真空泵
一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀
石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
射電源
直流電源1臺，500W，適用于制備金屬膜
射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式
一體機電腦操作
規(guī)格
整機尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm
整機重量 350kg
○ 免責(zé)聲明
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